Phát triển công nghệ quang khắc trực tiếp cho màn hình chấm lượng tử độ phân giải siêu cao

Nghiên cứu phát triển công nghệ quang khắc quang học trực tiếp (DOL) để tạo mẫu chấm lượng tử độ phân giải siêu cao mà không cần kháng quang. Nhóm tác giả cũng đề xuất chất liên kết chéo TDBA và quy trình hậu kỳ PETMP giúp nâng cao hiệu suất phát xạ. Đây là nền tảng quan trọng cho màn hình QLED hiệu suất và độ phân giải cao.